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微電子行業(yè)在生產(chǎn)過程中，需要超純水進(jìn)行清洗，生產(chǎn)高品質(zhì)純化水是微電子行業(yè)一個(gè)重要生產(chǎn)要求。

制備超純水流程中，因紫外線技術(shù)在超純水高品質(zhì)要求中不引入新的物質(zhì)，而得到廣泛應(yīng)用。

有機(jī)物是超純水系統(tǒng)中最難控制的污染，隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小挑戰(zhàn)，對(duì)超純水中TOC值的要求越來越高，因此，如何配置紫外線，如何確認(rèn)配置中紫外線設(shè)備的有效紫外劑量，進(jìn)而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高，安力斯將為您解決這些運(yùn)營(yíng)困擾。

工業(yè)園區(qū)，尤其是化工和制藥園區(qū)廢水處理往往會(huì)遇到以下“卡脖子”難題：1、化工廢水來源復(fù)雜，難生物降解，很難通過其它方法低成本去除；2、不明來源污水中潛藏毒性物質(zhì)，影響污水處理廠運(yùn)行。這些問題通過常規(guī)的污水處理工藝處理后出水COD等指標(biāo)無法穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放，往往需要通過高級(jí)氧化技術(shù)進(jìn)行預(yù)處理或深度處理。安力斯根據(jù)園區(qū)進(jìn)水水質(zhì)情況主要采用紫外氧化工藝中的光芬頓和過臭氧光催化工藝。

光芬頓，降解效率更高、藥劑投加量少而運(yùn)行成本低、產(chǎn)泥量大幅降低。過臭氧光催化工藝（UV/O3/H2O2）是最常見的一種后置高級(jí)氧化工藝，能有效降低COD，同時(shí)具有消毒的效果，且不會(huì)造成二次污染。

制藥廢水成分復(fù)雜、濃度和鹽分高、色度和毒性大，往往含有種類繁多的有機(jī)污染物質(zhì)，這些物質(zhì)大多數(shù)都是難生降解的生化物質(zhì)，可以在相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間內(nèi)存留于環(huán)境中，嚴(yán)重危害的人類健康。安力斯紫外氧化工藝去除醫(yī)藥和化學(xué)行業(yè)中有害的化學(xué)物質(zhì)和活性物質(zhì)是非常有優(yōu)勢(shì)的。可以根據(jù)實(shí)際要求提供不同的處理深度。可以對(duì)特定的目標(biāo)物質(zhì)選擇性的去除，同時(shí)提高生物利用度。

紫外氧化對(duì)制藥廢水去除毒性和提高生物利用率的預(yù)處理是非常有優(yōu)勢(shì)的。紫外氧化常用于對(duì)高濃度的母液進(jìn)行預(yù)處理，然后因?yàn)楦啕}度需要和其它工廠廢水混合稀釋后并引入生化池進(jìn)一步處理。通過引入紫外氧化工藝對(duì)制藥廢水分類預(yù)處理去除毒性的方式，在投資成本、運(yùn)行成本、處理效率方面都有明顯優(yōu)勢(shì)。